Un rapport de Reuters affirme que des scientifiques en Chine ont créé un prototype d’une machine qui pourrait éventuellement être utilisée pour produire des puces à semi-conducteurs capables d’alimenter l’intelligence artificielle. Des sources ayant confié l’information au média indiquent qu’une équipe située à Shenzhen a achevé le prototype d’une machine de lithographie par lumière ultraviolette extrême (EUV) plus tôt cette année et qu’il serait prétendument en cours de tests. La machine EUV aurait été fabriquée par d’anciens ingénieurs du fournisseur néerlandais de semi-conducteurs ASML. Reuters indique que la Chine vise la production de ses propres puces EUV à partir de 2028, bien que d’autres experts aient envisagé 2030 comme date plus probable.
L’EUV est une technologie extrêmement complexe ; nous proposons ci-dessous un exposé explicatif qui aborde certains aspects. Elle est au cœur des puces fabriquées par des entreprises telles qu’Intel et TSMC, de sorte que toute entreprise cherchant à rivaliser aurait également besoin d’accéder à l’EUV. Bien que le prototype chinois ne produise pas encore de puces, il serait capable de générer la lumière ultraviolette extrême nécessaire à la fabrication des puces.
Si cela venait à être confirmé, ce développement placerait la Chine aux commandes de la technologie bien plus tôt que ce que les analystes avaient prédit jusqu’à présent. À ce jour, l’EUV est resté largement hors de portée des entreprises occidentales et utilisé comme monnaie d’échange par le gouvernement américain. Le président chinois Xi Jinping a accordé une grande priorité à la capacité du pays de produire ses propres semi-conducteurs. « L’objectif est que la Chine puisse éventuellement fabriquer des puces avancées sur des machines entièrement fabriquées en Chine », a déclaré une source à Reuters. « La Chine veut que les États-Unis soient entièrement exclus de ses chaînes d’approvisionnement. »
